顆粒對(duì)CCD光刻圖形完整性的影響
在CCD（電荷耦合器件）制造過(guò)程中，顆粒沾污對(duì)CCD的薄膜質(zhì)量、光刻圖形完整性等有很大的影響，降低CCD的成品率。CCD制造過(guò)程中的顆粒來(lái)源主要有兩個(gè)方面：一個(gè)制造過(guò)程中工藝環(huán)境產(chǎn)生的顆粒；另一個(gè)是薄膜的淀積、光刻和離子注入等CCD工藝過(guò)程中產(chǎn)生的顆粒。工藝環(huán)境的顆�？蓙�(lái)源于墻體、設(shè)施、設(shè)備、材料和人員，工藝過(guò)程的顆粒來(lái)源于易產(chǎn)生粉塵的工藝，比如說(shuō)LPCVD淀積多晶硅和氮化硅及刻蝕工藝等。
本公司生產(chǎn)的COL-系列無(wú)塵烘箱，即使在普通環(huán)境下使用，能夠確保烘箱內(nèi)部等級(jí)達(dá)到Class 100，為CCD（電荷耦合器件）制造過(guò)程中烘烤提供潔凈環(huán)境，預(yù)防顆粒沾污
無(wú)塵烘箱特點(diǎn)：
1.全周氬焊，耐高溫硅膠破緊，SUS304#不銹鋼電熱生產(chǎn)器，防機(jī)臺(tái)本身所產(chǎn)生微塵；
2.采用進(jìn)口SUS304#日制800番2mm厚之鏡面不銹鋼板，并經(jīng)堿性蘇打水清潔，去油污避免烘烤時(shí)產(chǎn)生 PARTICLE；
3.采平面水平由后向前送風(fēng)后經(jīng)美國(guó)進(jìn)口H.E.P.A Filter 24"×24"×5-7/8"裝置往前門(mén)(特殊風(fēng)道設(shè)計(jì))方向送風(fēng)，過(guò)濾效率99.99%，Class 100,排氣口：３"φ(附自動(dòng)啟閉風(fēng)門(mén))。
詳情致電公司咨詢(xún)!